2026年10月12日，第二十六届中国国际工业博览会在上海盛大开幕。其中，朗道燧岩展位展示了一款国产极紫外（EUV）光源系统样机，标称功率超过15W，并且连续工作时间超过100小时，国产化率达到90%。该光源采用激光诱导等离子体（LPP）技术，与国际主流方案相同。尽管这一样机的进展显著，但与荷兰ASML的EUV光源相比仍存在巨大差距：ASML在2018年推出的光源功率起始于250W，现有机型常维持在600W左右，而这款样机功率仅为250W的6%。

功率是光源的重要指标，因为它直接影响光刻机的生产能力。ASML的600W光源每小时可处理约220片晶圆，若达到1000W则能提升至330片。然而，EUV光的生产效率极低，转化为13.5nm光的能量仅占2%至4%，其余主要为废热和锡颗粒。因此，提升功率不仅要增加火力，还需在热管理、碎片处理及光学元件寿命等多方面进行突破。

尽管朗道燧岩的样机在转换效率上表现出与ASML相当的潜力，但从15W提升到250W及600W的目标，仍面临着巨大的技术挑战。厂方透露，距离量产可能还需3到5年，但这一时间表尚未确定，可能会因研发过程中的新瓶颈而延长。

从产业链的视角看，尽管样机升级的步伐较慢，但为国内EUV配套零部件的厂商提供了早期对接的机会，90%的核心部件为自主研发，促使朗道燧岩与材料、设备厂商建立了初步联系。尽管样机尚不具备支持7nm及以下先进制程的能力，且对现有DUV设备的市场并未产生实质性影响，但这一进展无疑为未来的合作奠定了基础。

对于ASML而言，样机的亮相并未导致其业务受到影响，反而在持续扩产，并已实现1000W光源的技术验证。ASML的财务数据显示，短期内仍将面临良好的市场需求，并计划在2028年继续供不应求。ASML表示，出口限制虽然加大了中国自主研发的动力，但也意味着技术追赶将是一个长期过程。

总体来看，国产EUV光源从起步阶段到量产的旅程并不简单，关键在于能否成功提升功率、稳定性和系统的整体集成。ASML历经数年才从250W发展到600W，未来国产EUV光源的发展也将是一个持久的过程，成功与否将取决于技术革新的速度和能力。